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  1. 實(shí)驗(yàn)室去離子水設(shè)備如何運(yùn)行及維修

    [2019-08-05]

    實(shí)驗(yàn)室去離子水設(shè)備不僅僅用于工業(yè)生產(chǎn),其實(shí)很多地方都能用到實(shí)驗(yàn)室去離子水設(shè)備,如電子實(shí)驗(yàn)室等,可見實(shí)驗(yàn)室去離子水設(shè)備對(duì)我們的貢獻(xiàn)非同尋常。

  2. 工業(yè)反滲透去離子水設(shè)備該怎么樣清洗?

    [2019-06-03]

    工業(yè)反滲透去離子水設(shè)備不但可以用于食品行業(yè)生產(chǎn)用水,還可以用于電鍍、醫(yī)院、學(xué)校以及企業(yè)事業(yè)單位。但設(shè)備的日常的清洗不當(dāng),可會(huì)使用戶遭受損失,所以要做好反滲透裝置的養(yǎng)護(hù)和清潔。

  3. 工業(yè)去離子水設(shè)備的處理工藝有哪些

    [2019-05-20]

    工業(yè)去離子水設(shè)備的工藝大致可分為哪三種:   第一種:采用陽(yáng)陰離子交換樹脂取得的去離子水,一般通過(guò)之后,出水電導(dǎo)率可降到10us/cm以下,再經(jīng)過(guò)混床就可以達(dá)到1us/cm以下了。但是這種方法做出來(lái)的水成本極高,而且顆粒雜質(zhì)太多,達(dá)不到理想的要求。目前已較少采用了。

  4. 去離子水設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域

    [2019-05-05]

    去離子水設(shè)備,簡(jiǎn)單的解釋就是將水中的離子(鈉離子、鉀離子、鈣離子、鎂離子、氯離子、硫酸根離子、重碳酸根離子、硅等)去除去的設(shè)備,使水的電導(dǎo)率降低,電阻率升高(電導(dǎo)率與電阻率互為倒數(shù)),各行業(yè)對(duì)出水的水質(zhì)不一樣,所以去離子水設(shè)備,所選擇的工藝不一樣,費(fèi)用也就不一樣。

  5. 小型去離子水設(shè)備產(chǎn)品的特點(diǎn)

    [2019-04-29]

    我公司生產(chǎn)的小型去離子水設(shè)備產(chǎn)品的特點(diǎn):   1.以進(jìn)口名牌反滲透膜(RO膜)為核心,輔以多級(jí)預(yù)處理的膜式純水機(jī),運(yùn)用目前國(guó)際上先進(jìn)的反滲透技術(shù)和混床脫鹽工藝制備超純水。

  6. 去離子水設(shè)備處理工業(yè)廢水的方法怎么樣

    [2019-04-09]

    去離子水設(shè)備,是離子交換系統(tǒng)。離子交換系統(tǒng)是通過(guò)陰、陽(yáng)離子交換樹脂對(duì)水中的各種陰、陽(yáng)離子進(jìn)行置換的一種傳統(tǒng)水處理工藝,陰、陽(yáng)離子交換樹脂按不同比例進(jìn)行搭配可組成離子交換陽(yáng)床系統(tǒng),離子交換陰床系統(tǒng)及離子交換混床系統(tǒng),而混床系統(tǒng)又通常是用在反滲透等水處理工藝之后用來(lái)制取超純水,高純水的終端工藝,它是用來(lái)制備超純水、高純水不可替代的手段之一。

  7. 防爆去離子水設(shè)備的技術(shù)特點(diǎn)

    [2019-04-08]

    防爆去離子水設(shè)備是結(jié)合了電滲析與離子交換兩項(xiàng)技術(shù)各自的特點(diǎn)而發(fā)展起來(lái)的一項(xiàng)新技術(shù),與普通電滲析相比,由于淡室中填充了離子交換樹脂,大大提高了膜間導(dǎo)電性,顯著增強(qiáng)了由溶液到膜面的離子遷移,破壞了膜面濃度滯留層中的離子貧乏現(xiàn)象。

  8. 去離子水設(shè)備的工業(yè)應(yīng)用和市場(chǎng)需求

    [2019-04-03]

    去離子水設(shè)備的工業(yè)應(yīng)用和市場(chǎng)需求   近幾年EDI去離子在各個(gè)工業(yè)領(lǐng)域都越來(lái)越受重視,許多工業(yè)系統(tǒng)開始采用電去離子作為其水處理系統(tǒng)的更新?lián)Q代技術(shù),如電力工業(yè)、制藥工業(yè)、微電子工業(yè)、電鍍與金屬表面處理等。

  9. 工業(yè)去離子水設(shè)備的用途有哪些

    [2019-04-02]

    工業(yè)去離子水設(shè)備的用途都可以是:   1、制取電子工業(yè)生產(chǎn)如顯像管玻殼、顯像管、單晶硅半導(dǎo)體、綾路板、液晶顯示器、計(jì)算器硬盤和集成電路芯片等工藝所需的去離子水;

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